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HCC-2510硅片切割液

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技术成熟等级:

配方研发周期:需评估样品

研发中心:江苏省苏州市

满意度:--------

HCC-2510硅片切割液

1.产品介绍

该产品适用于多晶硅半导体材料的多线切割,多晶硅半导体的晶块内圆切削的润滑、降温、清洗防锈。

2.产品特性

(1)分散性好,携载能力强、高悬浮,可提高切割效率; 

(2)良好的导热性,可防止积碳形成,减小硅片翘曲度;

(3)抗压润滑性能极佳,减少磨料的损耗及机器的磨损; 

(4)完全水溶解,配合GK-11硅片清洗剂即可清洗。

3.使用方法

使用去离子水稀释使用;一般切割:建议使用浓度:10—20%;对于带磨料的研磨切削:建议高浓度使用,以现场工艺要求确定最佳使用浓度。

4.注意事项

保持切削液的清洁,禁止混入金属切屑、机油、线毛等杂物;禁止用工作液洗手、洗抹布;严禁食用;远离儿童存放。

5.包装储存

塑料桶包装,50KG或按客户要求;本品应贮存于干燥、阴凉、通风库房内,远离火源。

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