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硅片清洗剂配方技术

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技术成熟等级:

配方研发周期:需评估样品

研发中心:江苏省苏州市

满意度:--------

硅片清洗剂配方技术外包服务

项目背景

  太阳能硅片的清洁程度对太阳能电池的继续发展有着很大的影响,所以人们对太阳能硅片清洗的方法提出了更苛刻的要求。太阳能硅片在经过切片、倒角、研磨、抛光等加工过程中,表面会受到不同程度的污染,比如颗粒、金属离子以及有机物。如果没有处理好这些污染的话,器件性能会受到很大程度的影响。硅片清洗剂大多数呈碱性液体,主要成分是苛性碱、磷酸盐、硅酸盐、碳酸盐、鳌合剂和表面活性剂;硅片清洗剂利用化学剥离的原理有效将键入在硅片表面的颗粒、有机物、金属离子等污染物去除。清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面,使其长期处于易清洗的物理吸附状态(>120h),而不像难清洗的化学吸附状态转化,并在表面形成保护层,防止颗粒的二次吸附,实现了把有害吸附转化为无害吸附。能有效提高外延或扩散工序的成品率。市面常见硅片清洗剂主要有三种,分别是单组份清洗剂,双组份清洗剂,多组分清洗剂;

产品名称:硅片清洗剂配方技术(配方服务) 产品主要用途:硅片清洗 出具报告:禾川化学检测报告

 硅片清洗主要以超声波清洗为主,以鼓泡和抛动清洗等工艺为辅助手段;

   清洗工艺流程

    线切割完成后, 硅片经过脱胶处理与工件脱离,即进行下一步的清洗工艺,主要包括的步骤为:

    插片→去离子水+超声清洗+溢流→去离子水+超声波碱洗+抛动→喷淋→去离子水+超声波碱洗+抛动→喷淋→漂洗+溢流→烘干

应用领域

  

 适用于多晶硅、硅片及相关的硅片及延伸产品浸渍、喷淋清洗处理。超声波效果更佳。 

实例照片

市面常见牌号硅片清洗剂产品

硅片清洗剂配方

为保护核心技术资料的机密性,数据已经过修改处理,仅供参考。本单位对直接照搬配方数据带来的损失,不负法律责任;如有技术需求直接联系我中心技术专员400-660-8959

1)硅片清洗剂物性表

硅片清洗剂配方

2)硅片清洗后表面质量指标

硅片清洗剂配方

项目特点

 

 1)割流畅,切割口无崩屑,掰边整齐,镀银、镀镜、釉面后无黑边现象;

  2)切削力强,良好的清洗参透性能,有效的清除残留在金属的污染物质;

  3)环保,清新及润滑性能优秀,废屑沉淀性能好,易于清洗;

  4)玻璃切削液具有抗腐臭性能,产品稳定性好,使用寿命长;

  5)玻璃磨削液具有良好的无泡沫性能,内含丰富的皮肤保养剂,不易伤皮肤;

  6)良好的防锈性能;

  7)采用水性透明配方,使得工作液具有极高的透明度与清洁度;

项目开发价值

 

1)技术难点

a.多数厂家在更换清洗剂时硅片会出现大量脏片、花片;

b.特殊功能表面活性剂,很难找到合适的牌号及厂家;

c.常见硅片清洗剂缺乏高效缓蚀剂;

2)市场价值:

a.硅片清洗技术由国外知名公司长期技术垄断,国内企业自主开发及技术创新尤为重要;

b.多数光伏企业及科研所在长期从事该项目的研发;且因自身诸多缺陷未能取得技术性突破;因而该项目有较高的开发价值;

c.禾川研发中心自主研发出高效复配型表面活性剂及高效缓蚀剂,可大幅提高硅片清洗能力,有效提高硅片成品率;

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服务流程

成分分析,配方开发,工业诊断

联系方式

公司:苏州禾川化学技术服务有限公司
地址:苏州金鸡湖大道99号纳米城西北区NW-01幢3楼
电话:400-660-8959/0512-8219 0669
邮件:hechuanjishu@hechuanchem.com

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